RM

RM No.

Composition

Relative  

Expanded

Uncertainty

RM Description

Helium

BW(DT)0143

ArO2CH4CO2NeH2CON2   1.00—1000(μmol/mol)  He balance

2%(k=2)

GB/T 4844_ pure helium;   HP helium; UHP Helium

Argon

BW(DT)0113

O2CH4CO2H2CON2   1.00—1000(μmol/mol) Ar balance

2%(k=2)

GB/T 4842-2017 Argon

Hydrogen

BW(DT)0110

ArO2CH4CO2CON2   1.00—1000(μmol/mol) H2 balance

2%(k=2)

GB/T 3634.2 Hydrogen   part 2 HydrogenHP hydrogenUHP Hydrogen

NItrogen

BW(DT)0159

ArO2CH4CO2H2CO   1.00—1000(μmol/mol) N2 balance

2%(k=2)

GB/T 16944-2009 Gases   for electronic industry- Nitrogen GB/T8979-2008 pure nitrogen, HP   nitrogen, UHP nitrogen

Oxygen

BW(DT)0134

ArCH4CO2H2CON2   1.00—1000(μmol/mol) O2 balance

2%(k=2)

GB/T 14599-2008 pure   oxygen, HP oxygen, UHP oxygen GB/T 14604-2009 Gases for electronic   industry-Oxygen

CO2

BW(DT)0108

ArO2CH4H2CON2   1.00—1000(μmol/mol) CO2 balance

2%(k=2)

GB/T 23938-2009 HP   carbon dioxide

CO

BW(DT)0162

ArO2CH4CO2H2N2   1.00—1000(μmol/mol) CO balance

2%(k=2)

GB/T 35995-2018 carbon   monoxide

Neon

BW(DT)0171

ArO2CH4CO2H2CON2 1.00—1000(μmol/mol) Ne balance

2%(k=2)

GB/T 17873-2014 pure   Neon and HP Neon

Krypon

BW(DT)0171

ArO2CH4CO2H2CON2Xe   1.00—1000(μmol/mol) Kr Balance

2%(k=2)

GB/T 5829-2006 Krypon

Xenon

BW(DT)0171

ArO2CH4CO2H2CON2 KrN2O 1.00—1000(μmol/mol) Xe balance

2%(k=2)

GB/T 5828-2006 Xenon

Methane

BW(DT)0142

ArO2CO2H2CON2C2H6H2S 1.00—1000(μmol/mol)    CH4 balance

2%(k=2)

GB/T 33102-2016 pure   methane and HP methane